विशेष ऑप्टिकल फाइबर- वासिन फुजीकुरा उच्च तापमान प्रतिरोधी ऑप्टिकल फाइबर वासिन फुजीकुरा

संक्षिप्त वर्णन:

नानजिंग वासिन फुजीकुरा उच्च तापमान प्रतिरोधी ऑप्टिकल फाइबर में अच्छे ऑप्टिकल गुण, उत्कृष्ट गतिशील थकान गुण और उच्च तापमान स्थितियों के तहत उच्च तन्य शक्ति है। वासिन फुजीकुरा में उच्च तापमान प्रतिरोधी फाइबर की दो श्रृंखलाएं हैं, 200 डिग्री और 350 डिग्री पर


उत्पाद विवरण

उत्पाद टैग

नानजिंग वासिन फुजीकुरा उच्च तापमान प्रतिरोधी ऑप्टिकल फाइबर में अच्छे ऑप्टिकल गुण, उत्कृष्ट गतिशील थकान गुण और उच्च तापमान स्थितियों के तहत उच्च तन्य शक्ति है। वासिन फुजीकुरा में उच्च तापमान प्रतिरोधी फाइबर की दो श्रृंखलाएं हैं, 200 डिग्री और 350 डिग्री पर

विशेषता

► अच्छा उच्च तापमान प्रदर्शन
► तीव्र निम्न तापमान और उच्च तापमान (-55 डिग्री सेल्सियस से 300 डिग्री सेल्सियस तक) के सतत चक्र के तहत स्थिरता प्रदर्शन
► कम हानि, विस्तृत बैंड (निकट पराबैंगनी से निकट अवरक्त बैंड तक, 400nm से 1600nm)
► ऑप्टिकल क्षति के प्रति अच्छा प्रतिरोध क्षमता
► 100KPSI शक्ति स्तर
► प्रक्रिया लचीली है और इसे विभिन्न ज्यामिति, फाइबर प्रोफाइल संरचना, एनए, आदि को साकार करने के लिए अनुकूलित किया जा सकता है।

अधिकतम कार्य तापमान 200 डिग्री

कोटिंग के रूप में पॉलीऐक्रेलिक रेज़िन

पैरामीटर

एचटीएमएफ

एचटीएचएफ

एचटीएसएफ

क्लैडिंग व्यास (um)

50±2.5

62.5 ± 2.5

-
क्लैडिंग व्यास (um)

125±1.0

125±1.0

125±1.0

क्लैडिंग गैर-वृत्ताकारता (%)

≤1

≤1

≤1

कोर / क्लैडिंग संकेन्द्रता (um)

≤2

≤2

≤0.8

कोटिंग व्यास (um)

245±10

245±10

245±10

कोटिंग / क्लैडिंग संकेन्द्रता (um)

≤12

≤12

≤12

संख्यात्मक एपर्चर (एनए)

0.200±0.015

0.275±0.015

-
मोड फ़ील्ड व्यास (um) @1310nm

-

-

9.2±0.4

मोड फ़ील्ड व्यास (um) @1550nm

-

-

10.4±0.8

बैंडविड्थ (मेगाहर्ट्ज.किमी) @850nm

≥300

≥160

-
बैंडविड्थ (मेगाहर्ट्ज.किमी) @1300nm

≥300

≥300

-
प्रूफ टीट लेवल (kpsi)

100

100

100

परिचालन तापमान सीमा (°C)

-55 से +200

-55 से +200

-55 से +200

अल्पावधि (°C)( दो दिनों में)

200

200

200

दीर्घावधि (°C)

150

150

150

क्षीणन (dB/किमी) @1550nm

-

-

≤0.25

क्षीणन (डीबी/किमी)

≤0.7 @1300एनएम

≤0.8 @1300एनएम

≤0.35@1310एनएम
क्षीणन (dB/किमी) @850nm

≤2.8

≤3.0

-
कटऑफ तरंगदैर्ध्य

-

-

≤ 1290एनएम

अधिकतम कार्य तापमान 350 डिग्री

कोटिंग के रूप में पॉलीइमाइड
पैरामीटर एचटीएमएफ एचटीएचएफ एचटीएसएफ
क्लैडिंग व्यास (um) 50±2.5 62.5 ± 2.5 -
क्लैडिंग व्यास (um) 125±1.0 125±1.0 125±1.0
क्लैडिंग गैर-वृत्ताकारता(%) ≤1 ≤1 ≤1
कोर / क्लैडिंग संकेन्द्रता(um) ≤2.0 ≤2.0 ≤0.8
कोटिंग व्यास (um) 155±15 155±15 155±15
कोटिंग / क्लैडिंग संकेन्द्रता(um) 10 10 10
संख्यात्मक एपर्चर(एनए) 0.200±0.015 0.275±0.015 -
मोड फ़ील्ड व्यास (um) @1310nm - - 9.2±0.4
मोड फ़ील्ड व्यास (um) @1550nm - - 10.4±0.8
बैंडविड्थ (मेगाहर्ट्ज.किमी) @850nm ≥300 ≥160 -
बैंडविड्थ (मेगाहर्ट्ज.किमी) @1300nm ≥300 ≥300 -
प्रूफ टीट लेवल (kpsi) 100 100 100
ऑपरेटिंग तापमान रेंज(°C) -55 से +350 -55 से +350 -55 से +350
अल्पावधि (°C)( दो दिनों में) 350 350 350
दीर्घावधि (°C) 300 300 300
क्षीणन (डीबी/किमी) @1550nm - - 0.27
क्षीणन(dB/किमी) ≤1.2 @1300एनएम ≤1.4@1300एनएम ≤0.45@1310एनएम
क्षीणन (डीबी/किमी) @850nm ≤3.2 ≤3.7 -
कटऑफ तरंगदैर्ध्य - - ≤1290 एनएम

क्षीणन परीक्षण, 35 सेमी से अधिक व्यास वाले डिस्क पर फाइबर को 1 ~ 2 ग्राम तनाव से लपेटना


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