मल्टीमोड फाइबर- OM3 मल्टीमोड फाइबर वासीन फुजिकुरा

संक्षिप्त वर्णन:

नानजिंग वासीन फुजिकुरा OM3 मल्टीमोड फाइबर उन्नत प्लाज्मा सक्रिय रासायनिक वाष्प जमाव प्रक्रिया द्वारा निर्मित होते हैं, जो पूरी तरह से विरासत 10 100 Gb / S सिस्टेन अनुप्रयोगों का समर्थन करते हैं।


वास्तु की बारीकी

उत्पाद टैग

नानजिंग वासीन फुजिकुरा OM3 मल्टीमोड फाइबर उन्नत प्लाज्मा सक्रिय रासायनिक वाष्प जमाव प्रक्रिया द्वारा निर्मित होते हैं, जो पूरी तरह से विरासत 10 100 Gb / S सिस्टेन अनुप्रयोगों का समर्थन करते हैं।

प्रदर्शन

विशेषता शर्त दिनांक इकाई
ऑप्टिकल विनिर्देश
क्षीणन 850nm 1300nm 2.5 0.7 डीबी/किमी डीबी/किमी
ओएफएल बैंडविड्थ 850nm 1300nm 1500 500 मेगाहर्ट्ज · किमी मेगाहर्ट्ज · किमी
प्रभावी मोडल बैंडविड्थ 850nm 1300nm 2000 500 मेगाहर्ट्ज-किमी मेगाहर्ट्ज-किमी
10Gb/s ईथरनेट लिंक दूरी 300
संख्यात्मक एपर्चर (एनए) 0.185~0.215
शून्य-फैलाव तरंग दैर्ध्य 1295~1320 एनएम
शून्य-फैलाव ढलान 1295~1300एनएम 1300~1320एनएम 0.001(λ~1190)≤0.11 पीएस/(एनएम2किमी) पीएस/(एनएम2·किमी)
प्रभावी समूह 850nm1300nm 1.4751.473
बैक स्कैटर विशेषताएँ (1300nm)
बिंदु असंबद्धता 0.1 डीबी
क्षीणन एकरूपता 0.1 डीबी
द्वि-दिशात्मक माप के लिए क्षीणन गुणांक अंतर 0.1 डीबी/किमी
आयाम प्रदर्शन
कोर व्यास 50 ± 2.5 सुक्ष्ममापी
कोर गैर-परिपत्र 6.0 %
क्लैडिंग व्यास 125±2 सुक्ष्ममापी
क्लैडिंग नॉन-सर्कुलरिटी 2 %
कोटिंग व्यास 245 ± 10 सुक्ष्ममापी
क्लैडिंग / कोटिंग सांद्रता 12.0 सुक्ष्ममापी
कोर / क्लैडिंग सांद्रता 1.5 सुक्ष्ममापी
लंबाई 1.1~17.6 किमी/रील
पर्यावरण परफ़ॉर्मेंस (850nm/1300nm)
उमस वाली गर्मी 85°C आर्द्रता≥85%, 30दिन 0.2 डीबी/किमी
सूखी गर्मी 85 ℃ ± 2 ℃, 30 दिन 0.2 डीबी/किमी
तापमान निर्भरता -60 ℃ ~ + 85 ℃ दो सप्ताह 0.2 डीबी/किमी
जल विसर्जन 23 ℃ ± 5 ℃, 30 दिन 0.2 डीबी/किमी
यांत्रिक प्रदर्शन
सबूत परीक्षण स्तर ≥0.69 जीपीए
मैक्रोबेंड नुकसान100 मोड़φ75mm 850nm और 1300nm 0.5 डीबी
पट्टी बल 1.0~5.0 N
गतिशील थकान पैरामीटर 20

विशेषता

· कम निवेशन हानि
· उच्च प्रतिफल हानि।
· अच्छा दोहराव
· अच्छा इंटरचेंज
उत्कृष्ट पर्यावरणीय अनुकूलनशीलता

आवेदन

· संचार कक्ष
· एफटीटीएच (फाइबर टू द होम)
· लैन (लोकल एरिया नेटवर्क)
· एफओएस (फाइबर ऑप्टिक सेंसर)
· फाइबर ऑप्टिक संचार प्रणाली
ऑप्टिकल फाइबर कनेक्टेड और ट्रांसमिटेड उपकरण
· रक्षा युद्ध की तैयारी


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